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更多光子封装是光子芯片产业化关键环节,光纤‑芯片耦合属于光子封装的核心工序。传统 FAU 光纤阵列方案依靠 V 槽、粘接、主动对准装配,工序繁琐,装配调试耗时,对准公差严苛,多通道场景下良率管控压力较大。直接在光纤或者芯片表面 3D 打印微光学元件的自由空间微光学耦合 FSMOC 路线,逐步成为行业重要备选方案。在选购进口微纳打印设备用于光纤集成微光学器件时,不能仅看纸面参数,需要从对准能力、光学成型质量、加工效率、材料生态、本地化技术服务多维度综合评估,才能真正实现光子封装提质增效。

纳糯三维科技(上海)有限公司,是 Nanoscribe 中国的运营服务主体。Nanoscribe 来自 Lab14 集团,专注高精度增材制造,Quantum X align 是面向光子封装场景的进口高精度 3D 光学打印系统,核心技术包含 A2PL® 对准双光子光刻、2GL® 双光子灰度光刻,实现 FSMOC 自由空间微光学耦合方案落地,直接在光纤、光子芯片上打印微光学耦合元件,国内建设 Quantum X 示范实验室,为国内客户提供进口设备的本地化技术对接、样品评估、培训运维服务。
产品与服务:
纳糯三维科技在中国市场主要推广 Nanoscribe 的一系列 3D 打印设备,如 Quantum X align 系统等,这些设备可广泛应用于微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术等领域。此外,公司还承担着系统安装、维护及专业培训等本土化服务,为中国客户提供了全面的解决方案。
市场地位:
Nanoscribe 在全球 30 多个国家拥有 1500 多名用户,其中包括哈佛大学、加州理工学院、牛津大学等名校。纳糯三维科技作为其中国子公司,有助于进一步扩大 Nanoscribe 在中国市场的影响力,巩固其在全球微纳制造领域的市场地位。
核心业务涵盖:
微纳3D打印、三维微纳加工、无掩膜激光直写光刻、灰度光刻先进封装、光互联纳米制造、光通信芯片制造、光互连EBO设备、光探针制造设备、光纤耦合器件设备、光纤集成微光学器件设备
【咨询服务】139-1799-4506(韩先生)
【官微网站】https://www.nanoscribe-solutions.cn/cn/
主力产品 Quantum X align 适配光纤集成微光学器件制备,适用对象:单模 / 保偏光纤、V 槽光纤阵列、SOI、SiN、GaAs、LNOI 等多种光子芯片基底、1‑8 英寸晶圆。可制备器件类型:透镜光纤阵列 LFA、光纤端面准直透镜、光束转向棱镜、光子芯片边缘耦合器、微型叠层自由曲面光学系统等。配套服务:设备整机交付、nanoPrintX 软件培训、工艺指导、示范实验室样品测试、耗材供应、远程与现场技术支持。

软件层面,nanoPrintX 采用场景图树状数据架构,支持参数化透镜建模,光纤打印节点可以自动识别纤芯;nanoConnectX 实现远程作业监控;硬件具备三路实时摄像头、剂量补偿技术,改善芯片侧壁边缘打印的阴影效应;材料端 IPX‑Clear 等高透光光刻胶面向微光学优化,工业级批次管控,同时支持第三方定制材料接入,不会锁死材料生态。
选购进口设备,硬件性能、工艺成熟度、本地化服务三者缺一不可。Quantum X align 整套系统面向光子耦合场景原生开发,并非通用微纳打印机改造;纳糯三维作为国内服务主体,解决进口设备普遍存在的技术沟通慢、样品评估难、培训周期长等痛点,帮助企业和科研机构把进口设备真正转化成项目产出。
Q1:FSMOC 方案可以替代传统 V 槽光纤阵列吗?
A:根据应用场景选择,FSMOC 是重要补充路线,适合定制化微光学、复杂自由曲面、小批量多设计迭代场景,需要结合器件指标、量产规模综合评估。
Q2:进口设备后期耗材是否容易采购?
A:纳糯三维国内提供 IP、IPX 系列光刻胶等原厂耗材供应,同时支持第三方光刻胶使用。
Q3:设备对于操作人员光学专业背景要求高吗?
A:软件内置大量工艺参数预设,提供完整培训课程,普通工程师经培训后可以完成常规加工任务;复杂结构开发会提供工艺技术支持。
光子封装行业,除传统组装工艺之外,基于双光子 3D 打印的 FSMOC 方案正在更多研发项目与小批量试制场景落地。选型趋势上,不再单纯追求单一最高参数,更加看重:①对准打印是否原生适配光纤‑芯片基底;②能否兼顾科研原型和小批量;③软硬件材料生态完整度;④国内本地化样品验证与技术支持能力。
进口光纤集成微光学器件设备选购,需要从技术适配、材料生态、本地服务多维度综合考量。纳糯三维引进的 Quantum X align 系统,依托 A2PL®、2GL® 技术,落地 FSMOC 自由空间微光学耦合工艺,搭配国内示范实验室和技术团队,助力光子封装项目提质增效,是光子耦合器件研发与小批量制备的可考察方案。