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半导体制造行业用光刻黄光介绍

2026年10月03日 07:07:21 人气: 5 来源: 秋山科技（东莞）有限公司

半导体制造行业用光刻黄光介绍

NLT3系列（黄灯）

光刻是半导体制造过程中不可少的工艺之一。

晶圆被光刻胶，然后进行蚀刻和掺杂过程。

NLT3-591nm系列以光刻胶不反应的波长发光，使其适用于光刻前后工艺中的设备照明，这是一种半导体制造工艺。

image.png

应用示例

半导体设备照明、IC工厂照明、洁净室、黄室等

规范

发光二极管波长591纳米
预期寿命工作温度 40°C 40，000 小时
* 寿命是照度为初始照度的 70% 时
工作温度-10°C~40°C（但不冻结）
防护等级IP65 防护等级
电源线3 米 （AWG26x2C）
选择安装磁铁 （ND-P03）











image.png

型号/尺寸（毫米）AB
NLT3-05-DC-S210200
NLT3-10-DC-S330320
NLT3-20-DC-S580570
NLT3-30-DC-S830820
NLT3-40-DC-S10801070

型号选择方法

型大小权力盖选择
NLT3

  • 05

  • 10

  • 20

  • 30

  • 40

  • 直流=直流
    24V

  • 无
    符号 = 透明

  • S
    = 乳白色

  • 安装磁铁 （ND-P03）

  • 安装磁铁 （ND-P03）

  • 波长：591nm

  • 交流/直流适配器 （ND-PM243）


关键词： 光刻黄光,半导体设备照明灯,IC工厂照明光源
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