SE300椭偏仪400nm到1000nm测量薄膜材料厚度

SE300椭偏仪400nm到1000nm测量薄膜材料厚度

产品简介

SE300椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器，主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质。椭偏仪的主要原理是将自然光（紫外光、可见光以及红外光）变成偏振光后通过一定角度入射到样品上，偏振光进入样品介质后会反射回到椭偏仪检偏器内，由于样品介质会对偏振光的偏振态发生改变，而这种改变会被椭偏仪测量，椭偏仪就是利用这个介质对偏振光性质改变的原理来表征介质的性质的。


SE300型号实现400nm到1000 nm超长波段的探测，可实现对材料紫外、可见和红外波段的全覆盖测量研究，同时可搭配自动平台扫描、自动变角、微光斑探测以及平台加热等功能满足不同应用需求。

设备配置

探测器：阵列探测器

光源：高功率的DUV-Vis-NIR复合光源

测量角度变化：手动调节

软件：TFProbe 3.2版本的软件

计算机：Inter双核处理器、19”宽屏LCD显示器

电源：110–240V AC/50-60Hz，6A

保修：一年的整机及零备件保修

规格参数

波长范围：400nm到1000 nm

波长分辨率: 1nm

光斑尺寸：1mm至5mm可变

入射角范围：0到90度

入射角变化分辨率：5度间隔

样品尺寸：zui大直径为200mm或者150mm边长方形

基板尺寸：zui多可至20毫米厚

测量厚度范围*：5nm〜10μm

测量时间：约1/位置点

精度*：优于0.25％

重复性误差*：小于1 Ǻ

产品选型

用于反射的光度测量或透射测量；

用于测量小区域的微小光斑；

用于改变入射角度的自动量角器；

X－Y成像平台(X-Y模式，取代ρ-θ模式)；

加热/致冷平台；

样品垂直安装角度计；

波长可扩展到远DUV或IR范围；

扫描单色仪的配置；

联合MSP的数字成像功能，可用于对样品的图像进行测量等。

产品相册