海瑞思亮相CIOE 2026 质谱分析系列产品聚焦高精度气体检测

　　2026年9月9日，第二十七届中国国际光电博览会(CIOE中国光博会)在深圳国际会展中心正式开幕。深圳市海瑞思自动化科技有限公司(以下简称"海瑞思")携其质谱分析系列产品亮相本届展会，面向半导体、新能源、航空航天等行业的精密检测需求，呈现其在气体检测与质谱分析方向的产品布局。
 

海瑞思展位
 

　　海瑞思专注于密封检测、质谱检漏、质谱分析的研发与应用。自2008年成立以来，海瑞思持续推动检测技术升级，构建了覆盖气密检测、气体检测、质谱分析及质谱检漏的完整技术体系，检测精度覆盖10⁻¹至10⁻¹³Pa·m³/s，可满足从大漏筛查到极微漏检测的不同需求。目前，海瑞思的产品已应用于液冷、半导体、汽车、新能源、航空航天等领域，自主品牌Hirays涵盖检测设备、自动化系统及定制化工装、治具，并具备从单机设备到整线集成的一站式检测方案能力。
 

　　此次参展，海瑞思重点展出了HM-130高性能残余气体分析仪、HM-150高压力残余气体分析仪、HM-200在线质谱分析仪以及HM-230多压力残余气体分析仪等多款产品。

 

　　• HM-130高性能残余气体分析仪
 

 

　　本次展出的HM-130高性能残余气体分析仪专为半导体及真空工艺设计，面向高真空环境应用。该设备最小可检分压为2E-15Torr，扫描速度达2ms/点，质量数范围覆盖1-300amu。在半导体工艺中，可用于检漏、真空诊断、烃类分析等场景。其高灵敏度特性可捕捉超低浓度气体杂质，快速响应能力可实时捕捉制程瞬态变化，宽质量数范围兼容多场景、多气体的定性定量分析。产品面向半导体与真空镀膜等严苛环境设计，注重长期运行的稳定性与量产工艺的一致性。
 

　　• HM-150高压力残余气体分析仪

 

 

　　HM-150高压力残余气体分析仪专为高压严苛工况打造，工作压强上限为2Pa，最低分压检测限为2E-9Pa，涂覆氧化钇铱丝双灯丝或双钨灯丝，响应速度2ms/点，可应用于从高真空到PVD工艺的高灵敏度空气泄漏和污染检测。设备具备1-50 amu及1-100 amu双质量数范围，支持全谱扫描与特定质量数扫描，可对H₂、He、N₂、O₂、Ar等常见气体进行快速定性定量分析。其高灵敏度检测能力有助于锁定污染源，并支持API集成与自动监测报警功能，可接入数字化产线。
 

　　• HM-200在线质谱分析仪

 

 

　　HM-200在线质谱分析仪采用残余气体分析法(RGA)，面向微米级漏孔检测精度需求，为高精泄漏检测提供了一种在线分析方案。该产品强调核心自研、一体集成、无耗材成本及多腔轮流检测等特性，并配套海瑞思的一站式服务。基于四极杆质谱技术，HM-200可直接检测电解液，具备较高的灵敏度与宽质量数范围，可用于真空系统残余气体定性定量分析、工艺气体实时监测及污染溯源，满足工艺验证与研发需求。检测过程无需使用氦气，有助于降低系统运行成本；同时，该方案针对传统氦检中气体上浮、电解液表面张力导致的漏检问题提供了改进思路。设备符合人机工学设计，自带触摸显示屏，可降低操作负荷。
 

　　• HM-230多压力残余气体分析仪

 

 

　　HM-230多压力残余气体分析仪是一款集RGA、真空系统及智能进样模块于一体的在线质谱分析设备，适配多压力复杂工况。其宽压范围覆盖1E-8Torr至1.2atm，一台设备可覆盖全梯度压力场，适用于ALD、CVD、PVD和刻蚀等对真空环境要求严苛的半导体工艺。该设备提供1-100/200/300amu三种质量数选择，可实时监测H₂、He、N₂、O₂、Ar等关键气体成分，具备毫秒级响应速度，能实时追踪工艺气体组分变化，发现异常波动时及时报警。一体集成设计将RGA、真空系统、进样模块高度整合，无需额外搭建复杂真空系统，即接即测。此外，设备采用抗污染涂层与表面钝化工艺，有助于减少工艺沉积物对核心部件的污染，延长使用寿命。
 

　　本届CIOE上，海瑞思通过质谱分析系列产品的集中展示，体现了其在气体检测与质谱分析领域从核心部件到系统集成的技术能力。随着半导体、新能源等产业对检测精度与工艺稳定性的要求不断提升，海瑞思的相关产品方案为行业用户提供了更多选择。